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激光直寫光刻機(jī)

激光直寫光刻機(jī)

無(wú)掩模激光直寫光刻機(jī)

v  功能特點(diǎn):

ü  快速超高精度微細(xì)加工

ü  形成2D和2.5D微觀結(jié)構(gòu)

ü  亞微米分辨率

ü  階躍曝光/灰度曝光

ü  能夠?qū)Χ喾N基底樹脂組合進(jìn)行圖案化

ü  過(guò)程數(shù)據(jù)庫(kù)支持

ü  用于監(jiān)控和校準(zhǔn)的CCD攝像機(jī)

ü  自動(dòng)對(duì)焦

ü  易于使用的軟件

ü  遠(yuǎn)程控制接口

ü  堅(jiān)固穩(wěn)定的桌面工作站

v應(yīng)用領(lǐng)域:

ü 二維和2.5D微結(jié)構(gòu),精密光刻掩模

ü 等離子蝕刻掩模,微光學(xué)元件

ü 二元光學(xué)元件

ü 精密印刷掩模板

ü MEMS傳感器

ü 生物芯片傳感器

ü 耦合器

ü 整體光刻

ü LIGA模具

ü 小批量生產(chǎn)晶圓規(guī)模制造

v技術(shù)參數(shù)

參數(shù)名稱技術(shù)指標(biāo)
曝光波長(zhǎng):405 nm (根據(jù)要求可選)
XY特征尺寸: <1 μm typical*
XY行程范圍:從50×50mm至200×200mm(更大范圍可以定制)
定位精度:±1um
分辨率:50nm
速率:500mm/s
負(fù)荷:5 kg
設(shè)備尺寸:HxWxD 1750x900x625 mm
電氣規(guī)格:220 VAC, 50/60 Hz


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