v 功能特點
ü 本底真空-8Torr-10Torr
ü 四軸樣品臺，XYZ方向均可調節，可傾斜，可旋轉
ü RFICP射頻離子源
ü霍爾或考夫曼輔助離子源
ü 雙掩膜Dual mask
ü UpStream/Downstream控制
ü 膜厚監控儀
ü 可增加OES等離子發射光譜儀定性分析等離子成分
ü 可增加RGA四極質譜儀
ü 可增加進樣室，手動/自動上下片基片
（可根據客戶要求定制）
離子束刻蝕機
可用于刻蝕加工各種金屬（Ni、Cu、Au、Al、Pb、Pt、Ti等）及其合金，以及非金屬、氧化物、氮化物、碳化物、半導體、聚合物、陶瓷、紅外和超導等材料。 離子束刻蝕在非硅材料方面優勢明顯，在聲表面波、薄膜壓力傳感器、紅外傳感器等方面具有廣泛的用途。
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超高真空磁控濺射鍍膜機發送詢盤